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據(jù)清華大學(xué)官方消息，近日，由清華大學(xué)機械系路新春教授帶領(lǐng)清華大學(xué)成果轉(zhuǎn)化項目公司華海清科研發(fā)的首臺12英寸(300mm)超精密晶圓減薄機，已經(jīng)正式出貨，發(fā)往國內(nèi)某集成電路龍頭企業(yè)！   

     這是路新春教授團(tuán)隊與華海清科解決我國集成電路拋光裝備“卡脖子”問題之后，又一突破性成果，將應(yīng)用于3D IC制造、先進(jìn)封裝等芯片制造大生產(chǎn)線，滿足12英寸晶圓超精密減薄工藝需求。

     12英寸超精密晶圓減薄機是集成電路制造不可或缺的關(guān)鍵裝備，復(fù)雜程度高，技術(shù)攻關(guān)難度大，市場準(zhǔn)入門檻高，長期被國外廠商高度壟斷，國內(nèi)市場嚴(yán)重依賴進(jìn)口。

     為了突破減薄裝備領(lǐng)域的技術(shù)瓶頸，路新春教授帶領(lǐng)華海清科，利用在化學(xué)機械拋光領(lǐng)域的產(chǎn)業(yè)化經(jīng)驗，集中力量開展超精密減薄理論與技術(shù)研究，攻克晶圓背面超精密磨削、平整度智能控制、表面損傷及缺陷控制系列核心技術(shù)，研制出首臺用于12英寸3D IC制造、先進(jìn)封裝等領(lǐng)域晶圓超精密減薄機，解決該領(lǐng)域“卡脖子”問題。

      路新春教授團(tuán)隊自2000年起開展化學(xué)機械拋光（CMP）基礎(chǔ)研究，承擔(dān)國家重大科技攻關(guān)任務(wù)十余項，成功孵化華海清科，并研制出我國第一臺12英寸“干進(jìn)干出”CMP裝備及系列產(chǎn)品，整體技術(shù)達(dá)到國際先進(jìn)水平，實現(xiàn)28nm工藝量產(chǎn)，并具備14-7nm工藝拓展能力，創(chuàng)造了多項國產(chǎn)裝備紀(jì)錄。

      該設(shè)備累計110余臺應(yīng)用于先進(jìn)集成電路制造大生產(chǎn)線，市占率、進(jìn)口替代率均位居國產(chǎn)IC裝備前列。

      系列成果填補了國內(nèi)空白，打破了國際巨頭壟斷，首次實現(xiàn)了國產(chǎn)拋光裝備的批量產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。